De plasmasnijcontroller bestaat hoofdzakelijk uit de volgende componenten:
Hoog-stroombron: wordt gebruikt om een hoog- elektrisch veld te genereren;
Matchingnetwerk: wordt gebruikt om de verdeling van het hoog-elektrische veld in de plasmakamer aan te passen;
Plasmakamer: gebruikt om gasmoleculen te ioniseren en plasma te genereren;
Vacuümsysteem: Zorgt voor het vacuümniveau en de stabiliteit van de plasmakamer;
Controlesysteem: Wordt gebruikt om plasmaparameters te controleren en een stabiele controle van de elektrische eigenschappen van het plasma te bereiken.
